前沿科学研究
Oxide Semiconductor Materials and Devices Group
在前期研究工作基础上我们进一步采用IGZO/Ga2O3双沟道层结构设计,通过钝化界面缺陷与背沟道,解决了非晶Ga2O3单沟道层光电晶体管迁移率低、阈值电压不稳定和紫外可见抑制比低等难题,获得了同时具备优异的电学开关特性和光敏特性的探测器件。