以应用为导向的前沿基础研究，注重分析半导体材料中缺陷与表面界面性能调控对器件性能的影响规律和内在机制，同时探索新型器件应用。
X射线管系统可激光X射线光源，用于器件的诊断。
可以将图形文件直接转化为控制激光扫描路径，加工各种复杂图形，而且可以根据不同的实验要求和结果随时调整图形设计，摆脱了传统工艺中掩模板的限制。
探测系统可调单色光源、带有光谱采集软件、偏压源及测试源表、标准探测器、双离轴抛物镜等部件，可测光谱测量范围为200-1100nm，主要用于光电探测光谱响应标定。
验室专用镀膜仪，设备配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
该系统为超高真空三靶（永磁靶）磁控溅射镀膜系统， 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜等。可实现自动抽空控制。真空室采用D型前开门结构，有利于靶材更换及装卸样品，内部装有便于更换的防污衬板，减少真空室污染，利于整体清洁。
